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포지티브 PS 플레이트
이 제품은 브러시, 전통, 터빈 및 스프레이 분수 프레스 회전 인쇄 습수액 첨가제에 적합합니다.
사양
유형 :양성 PS 판 s
스펙트럼 민감성 : 320-450nm
노출 기간 : 30초, 약 20펄스(3kw 로딘-갈륨 램프, 1m UGRA PCW82 제어 스트립에서, 세 번째 섹션 잉크 제거)
*인쇄 조건 및 재질에 따라 기간이 달라집니다.
개발 시간 : 20-40초
현상액 : 물=1:7,23±2℃
분해능 : 2~98%
두께 : 0.15/0.20/0.25/0.30/0.40mm (맞춤형)
크기 : 기타 사양은 고객 요구 사항에 따라 맞춤 설정할 수 있습니다.
*Run-Length는 인쇄 조건 및 이미징 내용에 따라 다릅니다.
긍정적인 PS 플레이트의 장점
1. 전해연마{ 판 판 }.
2. 과립화 상태에 대한 포지티브 PS 판 표면은 진공 시간을 단축하고 노출 영역 및 비노출(인쇄) 영역 후광을 줄일 수 있습니다.
3. 기계 디스플레이, 핸드 디스플레이, 슬롯 디스플레이 처리에 적합합니다.
4. 도트 감소, 우수한 잉크 친화력, 높은 실행 길이.
5. 고품질 원료.
6. 샌드 메쉬 균일, 우수한 수-잉크 균형, 도트 감소 우수
7. 조밀한 산화물 층 - 높은 Run-Length.
8. 큰 허용 오차 - 작동하기 쉽고 인쇄 환경 적응성이 뛰어납니다.
용법:
노출 ( 판 연소 )
판 불타는 빛: 가장 적합한 광원으로 요오드 가정용 조명: 광원이 다르기 때문에 판 노출 시간이 다르며 표에서 권장하는 노출은 범위일 뿐입니다. 동일한 버전을 사용할 때 노출 시간은 일반 노출 시간보다 20% 더 길므로 튜브를 업데이트하는 것이 좋습니다.
필름 : 인쇄 품질을 보장하려면 필름 밀도 3.5 이상을 인쇄하는 것이 좋습니다.
노출 시간: STOUFFER21 그레이 스케일(등급 015) 또는 UGRA PCW82 컨트롤 스트립을 필름 아래 판 가장자리에 배치하고 권장 조건 하에 적절하게 노출 및 현상합니다. 세 번째 노출 레벨의 그레이 스케일은 포지티브 버전의 최상의 노출이고, 아홉 번째 노출 레벨은 네거티브 버전입니다. 또는 컨트롤 스트립의 10~15m 마이크로라인이 중단되지 않는 경우 포지티브 라인이 우세하고 네거티브가 우선해야 합니다. 라인이 우선합니다.
개발 중
현상액: huaguang PO형 현상액(양성 판 의 경우) 및 huaguang ND-II형 현상액(음성 판 의 경우)을 사용합니다.
현상액 비약: 포지티브 현상 시 농축액 용량: 물 = 용량 1:6 ∽ 1:8 네거티브 현상, 농축액 용량: 물 용량 = 1;2.
전개 안정성: 23℃ + 2℃. 온도가 높으면 판 도트 축소성이 생기고 동시에 인쇄 내구성이 저하됩니다. 온도가 너무 낮으면 현상 능력이 부족합니다.
현상 시간: 현상 시간은 1분을 초과하지 않습니다.
리터칭
huaguang PI 이미지 지우개를 사용하는 양수 판 .
huaguang NI를 사용하는 음수 판 이미지 지우개를 원합니다.
현상 세척 후 기판의 불필요한 이미지를 제거하기 위해 이미지 제거제를 제거할 부분에 소량 도포할 수 있으며 체류 시간은 45초를 초과하지 않아야 합니다.
코팅
현상 및 세척 후 레이아웃은 판 껌의 얇은 층으로 코팅되어야 합니다. 보호 접착제의 농도와 복용량은 판 껌 제조업체에서 권장해야 합니다.
베이킹
로스팅 접착제: 고품질 로스팅 접착제를 선택해야 합니다.
구운 판 시간: 5 ∽ 10분
구운 버전 온도: 220 ∽ 420
베이킹 판 은 온도 및 시간 작업을 엄격하게 권장해야 하며, 시간이 너무 짧고 온도가 너무 낮아 베이킹 판 효과를 얻을 수 없습니다. 시간이 너무 길면 온도가 너무 높으면 판 의 성능에 심각한 영향을 미치며, 특히 베이킹 판 종료를 판단하기 위한 변색 정도뿐만 아니라.